阜阳平面铝板研磨厂家

时间:2020年05月23日 来源:

实践表明,在所用压力范围内工件表面光洁度随着研磨压力的增加而降低。从某种意义上说,研磨的切削能力和工件表面光洁度是由研磨压力来决定的。对于研磨压力的增加,在同样研磨条件下磨粒承受的载荷也增加。如果研磨压力过大,使磨粒切入深度加深,切削作用加快,磨料的粉碎也加快,这时工件所获得的表面光洁度就较差。为此,要获得较高的表面光洁度,则需合理地选择研磨压力。在选择研磨压力时,首先应按工件的精度要求,来选择合理的研磨速度,被研材料的硬度及润滑剂的选用等。   在平面研主要原因机加工工件时,除了上述影响因素以外,研具的质量,工件的原始光洁度、研磨时间、工作环境的清洁程度、嵌砂技术、研磨运动的平稳性及其几何形状精度,等等会影响工件表面的光洁度。阜阳平面铝板研磨厂家

日前最常见的一种比较经济的氧化剂是H2O2。 H2O2虽然能用于多种材料的化学机械抛光,但由于其化学性质不稳定,容易发生分解,从而影响抛光效果。为了增强H2O2的稳定性,通常会向抛光液中添加一些稳定剂,以防比其分解。例如在铜及氮化钦的抛光过程中,通常添加5%(重量百分比)的H3P0、作为稳定剂,抛光效率***提高。   氧化剂的浓度会对抛光效果产生影响。在铝抛光过程中,随着氧化剂(H2O2)浓度的增加,氧化层形成速度加快且被及时去除,抛光效率提高,表而刮痕尺寸减小;但当氧化剂浓度增加到一定值时候,抛光效率反而降低,表而刮痕尺寸增人,其原因是化学反应速度人于机械去除速度,氧化层不能及时被去除,阻碍了氧化反应的进行,机械去除也使得表而容易产生较人尺寸的刮痕,所以氧化剂(H2O2)浓度应控制在1 ~ 3%(体积百分比)。而在铜抛光过程中,抛光液中氧化剂(H2O2)的浓度比较好控制在7%以下。   此外,氧化剂的浓度也会影响抛光液中磨粒(特别是金属磨粒)的平均尺寸。随着氧化剂浓度的增加,磨粒的平均尺寸会减小,其原因是磨粒表而经氧化反应形成的氧化层,一部分溶解,另外一部分则被抛光垫去除。无锡正规铝板研磨常用解决方案

人们的生活质量在不断提高,人们对物质的要求也越来越高。在选购商品时从外观到内在质量的要求越来越讲究,产品的外观是吸引顾客的要素,所以,产品的外观质量应该和产品的内在质量一样精益求精。现在,人们对产品的要求已不再是好用,还要好看,如产品表面的光洁度,光亮度等等。所以产品的外观是否美观成了产品的要素。要使得产品的外观表面光洁铮亮,美观大方,在生产过程中对产品进行一系列的表面处理是必不可少的,表面处理的简单快速处理设备,研磨抛光机是不错的选择。研磨抛光设备和研磨材料的相互配合,能将产品表面处理成美观光亮的表面,如研磨材料中的研磨光亮剂,在研磨抛光处理中有着很重要的意义。

平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力,将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除,从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2 、Al2O3及CeO2等。   磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸,从而影响抛光效果。抛光铝实验中,相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度,表而刮痕数量少、尺寸小,其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小,抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小,并且在推荐其它参数的情况下,也能获得很高的抛光效率。   磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中,随着磨料 (胶体SiO2)浓度的提高,单位而积参与磨削的磨粒数日增加,所以抛光效率提高,表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变; 但磨料浓度过人时,抛光液的粘性增人,流动性降低,影响加工表而氧化层的有效形成,导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响,磨粒尺寸越小,表而损伤层厚度小。据统计,在硅片的精抛过程中,每次磨削层的厚度*为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度,通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。

(3)当研磨软质材料工件时,磨粒容易嵌入工件表面,使研痕加深,从而破坏了表面光洁度。为了得到较高的表面光洁度,可采用嵌砂研具或者材质软的研具进行研磨。一般说来,被研表面光洁度是随着被研工件材料硬度的增加而得到改善的,因此,对于淬硬钢工件表面光洁度的提高,可通过提高淬火硬度的方法来达到。   (2)选择正确的研磨运动轨迹,关于研磨运动轨迹的种类与特点,在前面已讲过,实践表明,不同的研磨轨迹对被研表面光洁度的影响亦不同,其中,直线往复式研出的表面光洁度比较低,这是出为运动的方向性强,单纯的直线往复运动其研磨纹路足平行的,如使切痕重复加深,则不利于表面光洁度的改善。而其它如摆线式、正弦曲线式及不规则圆环线式研磨轨迹的共同特点是,运动的方向在不断地变化,研磨纹路是纵横交错的,在一定的研磨条件下,可研出较理想的表面光洁度来。 阜阳平面铝板研磨厂家

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金属材料的抛光过程中,为了能够快速地在加工表而形成一层软而脆的氧化膜,便于后续的机械去除,从而提高抛光效率和表而平整度,通常会在抛光液中加入一种或多种氧化剂。   氧化剂种类会对抛光效果产生影响。抛光金属钨时常用的氧化剂有H2O2、 Fe(N03 ) 3及其混合物。H2O2氧化性较弱,氧化反应**发生在钨表而颗粒的边缘,只有当氧化产物溶解后,剩余的硬度较人部分才能暴露出来,参与下一次氧化反应;Fe(N03 )3中Fe氧化性较强,能在钨表而能够迅速形成硬度小、脆性人且容易去除的氧化层,从而提高了抛光效率和表而质量;当H2O2和Fe(N03 )3混合剂时发生F en ti>n反应,生成氧化性更强的过氧氢氧自由基,氧化层的形成速度进一步加快,所以相对于Fe(N03 )3抛光效率提高人约一倍。阜阳平面铝板研磨厂家

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